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電子工業(yè)超純水設(shè)備系統(tǒng)概述

 隨著電子工業(yè)的發(fā)展,在芯片的生產(chǎn)加工過(guò)程中,對(duì)于水質(zhì)的要求也越來(lái)越高。為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路,除高純?cè)牧稀⒏呒儦怏w、高純化學(xué)藥品外,超純水也是其中最關(guān)鍵的因素之一。

 

   預(yù)處理部分主要包括:沙濾、活性碳塔(有的廠商在沙濾前還增設(shè)反應(yīng)槽、氣浮池);一次純水處理部分主要包括:陰陽(yáng)離子交換塔、脫氣塔(DG)、保安過(guò)濾器、紫外線(xiàn)殺菌器及多級(jí)反滲透;超純水處理部分主要包括:MDG(脫氧膜組)、TOC-UV殺菌器、混床(MB)及終端過(guò)濾器。

  考慮到在向工藝設(shè)備輸送高純水過(guò)程中,輸水管道會(huì)對(duì)水質(zhì)再次造成污染,因而在FAB內(nèi)一般都設(shè)立拋光循環(huán)系統(tǒng)。拋光循環(huán)系統(tǒng)主要以MB為核心,再加上超濾設(shè)備(UF),以除去在向工藝生產(chǎn)線(xiàn)輸送純水的過(guò)程中,管網(wǎng)溶入水中的雜質(zhì)。

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